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APLICA DISEÑO

International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL

Multidisciplinario

Sede Padre Alonso de Ovalle

El Proyecto consiste en un trabajo colaborativo entre alumnos de Diseño Industrial de Israel, con alumnos de Diseño Industrial y Diseño de Ambientes de Duoc UC sede Alonso de Ovalle, donde se deberá “ Redefinir la experiencia de compra de las tiendas H&M” a través de un análisis desde la perspectiva de la disciplina del diseño en un plazo de 5 semanas.

Estado del Proyecto Finalizado
Estudiantes Participantes 12 ESTUDIANTES: Rocío Mora, Nicolás Álvarez, Vanesa González, Camila Villela, María Jesús Rivera, Isabella Pino, Lukas Vivanco, Marcela Lavín, Daniela Maturana, Isadora Ahumada, Camila Pacheco, Daniel Silva
Docentes a Cargo Paulina Romo
Asignaturas Involucradas No aplica
Carreras Involucradas Diseño de Ambientes
Tiempo de Desarrollo 5 semanas
Semestre No aplica
Año 2021
Empresa ESCUELA DE DISEÑO ARIEL COLLEGE EN ISRAEL

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