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• APLICA DISEÑO
International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL
Multidisciplinario
Sede Padre Alonso de Ovalle
El Proyecto consiste en un trabajo colaborativo entre alumnos de Diseño Industrial de Israel, con alumnos de Diseño Industrial y Diseño de Ambientes de Duoc UC sede Alonso de Ovalle, donde se deberá “ Redefinir la experiencia de compra de las tiendas H&M” a través de un análisis desde la perspectiva de la disciplina del diseño en un plazo de 5 semanas.
Estado del Proyecto | Finalizado |
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Estudiantes Participantes | 12 ESTUDIANTES: Rocío Mora, Nicolás Álvarez, Vanesa González, Camila Villela, María Jesús Rivera, Isabella Pino, Lukas Vivanco, Marcela Lavín, Daniela Maturana, Isadora Ahumada, Camila Pacheco, Daniel Silva |
Docentes a Cargo | Paulina Romo |
Asignaturas Involucradas | No aplica |
Carreras Involucradas | Diseño de Ambientes |
Tiempo de Desarrollo | 5 semanas |
Semestre | No aplica |
Año | 2021 |
Empresa | ESCUELA DE DISEÑO ARIEL COLLEGE EN ISRAEL |