Aplica diseño
International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL
Año 2021
- Padre Alonso de Ovalle
Carreras Involucradas
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Diseño Industrial
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Diseño Gráfico
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Diseño de Ambientes
Docentes
Paulina Romo
Asignatura
No aplica
Estudiantes
12 ESTUDIANTES: Rocío Mora, Nicolás Álvarez, Vanesa González, Camila Villela, María Jesús Rivera, Isabella Pino, Lukas Vivanco, Marcela Lavín, Daniela Maturana, Isadora Ahumada, Camila Pacheco, Daniel Silva
Detalle del Proyecto
Descripción
El Proyecto consiste en un trabajo colaborativo entre estudiantes de Diseño Industrial de Israel, con alumnos de Diseño Industrial y Diseño de Ambientes de Duoc UC sede Alonso de Ovalle, donde se deberá “ Redefinir la experiencia de compra de las tiendas H&M” a través de un análisis desde la perspectiva de la disciplina del diseño en un plazo de 5 semanas.
Empresa
ESCUELA DE DISEÑO ARIEL COLLEGE EN ISRAEL
Tiempo de desarrollo
No aplica, Año 2021.
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Diseño Identidad Corporativa Fundación FAMCHI
